|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Formation of ZrO2-CeO2 layers on silicon wafers using laser ablationстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus,
Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 13 февраля 2018 г.
- Авторы: Akimov A.G., LeHericy J., Kazansky L.P., Khodan A.N.
- Журнал: Thin Solid Films
- Том: 292
- Год издания: 1997
- Издательство: Elsevier Sequoia
- Местоположение издательства: Switzerland
- Первая страница: 307
- Добавил в систему: Казанский Леонид Петрович