–
Доклады на научных конференциях
-
- 2019 Understanding the interaction mechanisms between amorphous carbon sacrificial patterning material and H2 plasma to enable area-selective ALD processes (Устный)
- Авторы: Zyulkov I., Voronina E.N., Chan BT, Mankelevich Yu A., Rakhimova T.V., De Gendt S., Armini S.
- Plasma Etch and Strip for Microtechnology workshop (PESM 2019), Гренобль, Франция, 20-21 мая 2019