ИСТИНА

Двухчастотные ВЧ плазменные реакторы на данный момент являются одним из наиболее используемых инструментов СБИС-технологий современной микроэлектроники уровня менее 32-45 нм. Ключевой их особенностью является возможность создания однородного потока ионов на поверхность обрабатываемого материала при независимом контроле величины потока и энергетического спектра ионов. Такой независимый контроль потоком и энергией ионов крайне важен для реализации прецизионного управления плазмохимическими процессами, особенно на атомарном уровне. Однако, диапазон разрядных условий, в котором независимый контроль потока и энергии ионов может быть достигнут, может быть ограничен так называемым «эффектом связывания ВЧ частот». Этот эффект является следствием того, что ионы, особенно лёгкие, способны реагировать на низкую ВЧ частоту в течение ВЧ периода, что приводит к пространственному и временному изменению параметров плазмы. Такую связь между откликом ионов на частоту ВЧ-смещения и параметрами плазмы называют динамическими эффектами ионов, которые непосредственно являются объектом исследования в рамках данного проекта. Динамические эффекты ионов предполагается исследовать методом пространственно- и фазово-разрешённой оптической эмиссионной спектроскопии (PROES) в двухчастотном емкостном ВЧ разряде в чистом Ar, а также в Ar с примесью Xe.