Математическая модель температурных полей в процессе электронно-лучевого экспонирования при изготовлении фотошаблонов БИСстатья
-
Авторы:
Грачев Е.А.,
Кузьмин И.Ю.,
Ошарин О.В.,
Цыганков В.Ю.
-
Журнал:
Вопросы радиоэлектроники. Серия ЭВТ
-
Номер:
5
-
Год издания:
1983
-
Первая страница:
55
-
Последняя страница:
61
-
Аннотация:
Представлена математическая модель теплового процесса при обработке многослойной пластины фотошаблона электронным лучом
-
Добавил в систему:
Кузьмин Игорь Ярьевич